真空蒸發(fā)鍍膜(簡稱真空蒸發(fā))是將蒸發(fā)材料加熱使其蒸發(fā)，沉積在產(chǎn)品表面形成固體薄膜。真空蒸發(fā)利用各種形式的熱能轉(zhuǎn)換，將涂層材料蒸發(fā)或升華成具有一定能量的氣態(tài)顆粒。介質(zhì)鐳射膜氣態(tài)粒子通過基本上無碰撞的線性運動傳輸?shù)揭r底，并且粒子沉積在襯底的表面上并凝結(jié)成薄膜。介質(zhì)鐳射膜形成薄膜的原子重新排列或化學(xué)鍵的結(jié)合發(fā)生變化。

介質(zhì)鐳射膜的主要組成

真空鍍鋁工藝是在10-2-10-3Pa的真空條件下，將鋁線加熱到1400℃左右，然后附著在各種基膜上，形成真空鍍鋁薄膜，鋁層厚度一般為35-55 nm。